[发明专利]一种工件台和掩模台测量光路平行的调节方法

摘要

本发明公开了一种工件台和掩模台测量光路平行的调节方法，包括：将工件台激光干涉仪光路调好后，调节棱镜模组，使工件台激光干涉仪射出的光的第一光路L1和第二光路L3平行；第三部分的光路照到承版台的反射镜上，此时装好检测装置，使经反射的光照到检测装置上；推动承版台，同时检测装置检测形成的光斑的波动；调节承版台的运动方向，使光斑波动的幅度最小；拆掉检测装置和棱镜模组，将半透半反棱镜与检测装置安装在承版台光路上；推动承版台，检测装置检测形成的光斑的波动；调节掩模台激光干涉仪光路，使光斑波动的幅度最小。本发明利用光学原理和基准互相参考的方法，通过简单的调节光路，实现工件台和掩模台激光测量光路的精确定位。

主权项

一种工件台和掩模台测量光路平行的调节方法，其特征在于，包括以下步骤：首先，在通过工件台承片台将工件台激光干涉仪光路调节好之后，调节棱镜模组，使得工件台激光干涉仪射出的光的在入射到棱镜模组之前的第一光路与经棱镜模组射出后的第二光路平行；经棱镜模组射出后的第二光路直接照到掩模台承版台的反射镜上，此时装配好检测装置，使得经掩模台承版台的反射镜反射的光照射到检测装置上；推动掩模台承版台，使得掩模台承版台通过导轨滑块沿着导轨运动，同时通过检测装置检测形成于其上的光斑的波动；调节掩模台承版台的运动方向，使得检测装置上形成的光斑波动的幅度最小；拆卸掉所述检测装置和棱镜模组，将半透半反棱镜与所述检测装置安装在掩模台承版台光路上；推动掩模台承版台，通过检测装置检测形成于其上的光斑的波动；调节掩模台激光干涉仪光路，使得在检测装置上形成的光斑波动的幅度最小。