[发明专利]一种工件台和掩模台测量光路平行的调节方法

权利要求书

1.一种工件台和掩模台测量光路平行的调节方法，其特征在于，包括以下步骤：

首先，在通过工件台承片台将工件台激光干涉仪光路调节好之后，调节棱镜模组，使得工件台激光干涉仪射出的光的在入射到棱镜模组之前的第一光路与经棱镜模组射出后的第二光路平行；

经棱镜模组射出后的第二光路直接照到掩模台承版台的反射镜上，此时装配好检测装置，使得经掩模台承版台的反射镜反射的光照射到检测装置上；

推动掩模台承版台，使得掩模台承版台通过导轨滑块沿着导轨运动，同时通过检测装置检测形成于其上的光斑的波动；

调节掩模台承版台的运动方向，使得检测装置上形成的光斑波动的幅度最小；

拆卸掉所述检测装置和棱镜模组，将半透半反棱镜与所述检测装置安装在掩模台承版台光路上；

推动掩模台承版台，通过检测装置检测形成于其上的光斑的波动；

调节掩模台激光干涉仪光路，使得在检测装置上形成的光斑波动的幅度最小。

2.如权利要求1所述的工件台和掩模台测量光路平行的调节方法，其特征在于，所述检测装置是检测片。

3.如权利要求1所述的工件台和掩模台测量光路平行的调节方法，其特征在于，所述检测装置是CCD接收器。