[发明专利]半透射半反射式液晶显示面板及其制作方法无效
| 申请号： | 201010002135.3 | 申请日： | 2010-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN102116956A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 杨瑞贤;施博盛;萧建智;胡宪堂;刘挺中 | 申请（专利权）人： | 瀚宇彩晶股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;H01L21/84;H01L27/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 蹇炜 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种半透射半反射式液晶显示面板的制作方法，首先提供阵列基板，所述阵列基板包含多个定义有元件区、透射区与反射区的像素区；于所述阵列基板上形成第一金属层；图案化所述第一金属层以同时形成栅极电极与多个金属凸块；于所述阵列基板上形成覆盖所述栅极电极与所述多个金属凸块而具有粗糙表面的第一绝缘层；于所述栅极电极上形成图案化半导体层；于所述反射区内形成覆盖所述第一绝缘层而具有粗糙表面的反射层；以及依序于所述阵列基底上形成图案化第二绝缘层与像素电极。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 反射 液晶显示 面板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种制作半透射半反射式液晶显示面板的方法，包含有以下步骤：提供阵列基板，所述阵列基板包含多个像素区，且各所述像素区包含元件区、透射区与反射区；于所述阵列基板上形成第一金属层；图案化所述第一金属层，以于所述元件区内形成栅极电极，同时于所述反射区内形成多个金属凸块；于所述阵列基板上形成第一绝缘层，所述第一绝缘层覆盖所述栅极电极与所述多个金属凸块，且所述第一绝缘层藉由位于其下方的所述多个金属凸块而具有粗糙表面；于所述元件区内的所述栅极电极上形成图案化半导体层；于所述反射区内形成反射层，且所述反射层覆盖所述第一绝缘层并藉由位于其下方的所述第一绝缘层而具有粗糙表面；以及于所述阵列基底上形成图案化第二绝缘层与像素电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瀚宇彩晶股份有限公司，未经瀚宇彩晶股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010002135.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
