[发明专利]半透射半反射式液晶显示面板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板及其制作方法，特别涉及一种半透射半反射式(transflective)液晶显示面板及其制作方法。

背景技术

液晶显示面板依其光源的利用及阵列基板的差异，可分为透射式、反射式以及半透射半反射式等三大类。随着液晶显示器以及便携式电子产品的普及化，液晶显示器必需兼顾在户外强光环境与室内环境，甚至是在暗处时的显示质量，而半透射半反射式液晶显示面板即为在上述环境中皆可提供同样清晰的显示效果的一较佳选择。

参阅图1，图1为一现有半透射半反射式液晶显示面板的结构示意图。如图1所示，半透射半反射式液晶显示面板100包含有阵列基板102、与阵列基板102相对的彩色滤光片基板104、以及设置于阵列基板102与彩色滤光片基板104间的液晶分子层106。半透射半反射式液晶显示面板100包含有多个像素区110，各像素区110则分别包含反射区112与透射区114。阵列基板102上的各像素区110内设置有薄膜晶体管120；且如图1所示，薄膜晶体管120设置于反射区112之内。为了使透射光与反射光经过液晶的光程一致，现有技术还在完成薄膜晶体管120工艺后，于反射区112内的阵列基板102上形成覆盖薄膜晶体管120的有机绝缘层130，且有机绝缘层130是利用额外的掩膜形成预定图案；随后于有机绝缘层130上形成反射层132。由于有机绝缘层130表面所具有的预定图案，形成于其上的反射层132会沿该预定图案的轮廓获得粗糙表面，以提高反射率。而在透射区114中，形成透明材料的像素电极140，且像素电极140透过有机绝缘层130的接触孔(contact hole)134电连接于薄膜晶体管120。

如前所述，为使透射光与反射光的光程一致，半透射半反射液晶显示面板100需额外设置有机绝缘层130以垫高反射区112；且必需增加掩膜，以定义有机绝缘层130的位置及其表面轮廓。因此有机绝缘层130会被做得非常厚，甚至将近液晶间隙(cell gap)的一半，也就是说有机绝缘层130的设置无可避免地增加了工艺时间与成本等。更值得注意的，如150所圈示，由于反射区112内的有机绝缘层130与透射区114内阵列基板102交界处轮廓的高度断差，后续沉积制作像素电极140的工艺控制难度会随之增加，甚至产生像素电极140断线的问题。另外，为了提升反射率，现有半透射半反射液晶显示面板100更需利用前述额外增加的掩膜形成有机绝缘层130的预定图案，以使后续形成的反射层132具有粗糙表面。由此可知，半透射半反射液晶显示面板100的制作更为复杂，其工艺控制更为困难。

发明内容

因此，本发明的目的之一在于提供一种半透射半反射式液晶显示面板及其制作方法，以解决前述现有技术所面临的难题。

为达上述的目的，本发明提供一种制作半透射半反射式液晶显示面板的方法，该方法首先提供阵列基板，该阵列基板包含多个像素区，且各该像素区包含元件区、透射区与反射区。接下来于该阵列基板上形成第一金属层，随后图案化该第一金属层，以于该元件区内形成栅极电极，同时于该反射区内形成多个金属凸块。在形成该栅极电极与该些金属凸块后，于该阵列基板上形成覆盖该栅极电极与该些金属凸块的第一绝缘层；该第一绝缘层藉由位于其下方的该些金属凸块而具有粗糙表面。之后，于该元件区内的该栅极电极上形成图案化半导体层；并于该反射区内形成反射层，且该反射层覆盖该第一绝缘层而具有粗糙表面，以及依序于该阵列基底上形成图案化第二绝缘层与像素电极。

本发明于此另提供一种制作半透射半反射式液晶显示面板的方法，该方法首先提供阵列基板，该阵列基板包含多个像素区，且各该像素区包含元件区、透射区与反射区。接下来于该阵列基板的该元件区内形成栅极电极，并于该阵列基板上依序形成第一绝缘层与形成于该栅极电极上方的图案化半导体层，而在形成该图案化半导体层后，图案化该第一绝缘层，以于该反射区内形成多个凸块。接下来于该反射区内形成反射层，且该反射层覆盖该些凸块而具有粗糙表面；以及依序于该阵列基底上形成图案化第二绝缘层与像素电极。

根据本发明的权利要求，还提供一种半透射半反射式液晶显示面板，其包含有阵列基板，该阵列基板包含多个像素区，且各该像素区具有元件区、透射区与反射区；形成于该阵列基板的该元件区内的薄膜晶体管；多个形成于该阵列基板的该反射区内的凸块；形成于该反射区内的反射层，且该反射层覆盖该等凸块而具有粗糙表面；以及形成于该透射区与该反射区内的像素电极，该像素电极电连接至该薄膜晶体管。