[发明专利]具备具有二极管区和IGBT区的半导体基板的半导体装置有效
| 申请号: | 200980159079.X | 申请日: | 2009-09-14 |
| 公开(公告)号: | CN102414817A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
| 发明(设计)人: | 添野明高 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L21/322;H01L21/336;H01L21/76;H01L21/761;H01L21/8234;H01L27/06;H01L27/088;H01L29/739;H01L29/78 |
| 代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;孙丽梅 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种半导体装置,其具备形成有二极管区和IGBT区的半导体基板。在二极管漂移区内形成有寿命控制区。二极管漂移区和IGBT漂移区在二极管区和IGBT区之间的边界区内连续。边界区内形成有第1分离区和第2分离区。第1分离区为p型,且被形成在从半导体基板的上表面起到比阳极区的下端以及体区的下端更深的深度为止的范围内,并与阳极区相接。第2分离区为p型,且被形成在从半导体基板的上表面起到比阳极区的下端以及体区的下端更深的深度为止的范围内,并与体区相接,且与第1分离区分离。 | ||
| 搜索关键词: | 具备 具有 二极 管区 igbt 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其具备形成有二极管区和绝缘栅双极性晶体管区的半导体基板,所述半导体装置的特征在于,在二极管区中形成有:阳极区,其为p型,且被形成在包含半导体基板的上表面在内的范围内;二极管漂移区,其为n型,且被形成在阳极区的下侧;阴极区,其为n型,且n型杂质浓度高于二极管漂移区,并被形成在包含半导体基板的下表面在内的、二极管漂移区的下侧的范围内,在绝缘栅双极性晶体管区中形成有:发射区,其为n型,且被形成在包含半导体基板的上表面在内的范围内;体区,其为p型,且被形成在包含半导体基板的上表面在内的范围、以及发射区的下侧的范围内;绝缘栅双极性晶体管漂移区,其为n型,且被形成在体区的下侧,并通过体区而与发射区分离;集电区,其为p型,且被形成在包含半导体基板的下表面在内的、绝缘栅双极性晶体管漂移区的下侧的范围内;栅电极,其通过绝缘膜而与将发射区和绝缘栅双极性晶体管漂移区分离的范围内的体区对置,在二极管漂移区内形成有寿命控制区,寿命控制区内的载流子寿命短于寿命控制区外的二极管漂移区内的载流子寿命,二极管漂移区和绝缘栅双极性晶体管漂移区在二极管区和绝缘栅双极性晶体管区之间的边界区内连续,在边界区内形成有:第1分离区,其为p型,且被形成在从半导体基板的上表面起到比阳极区的下端以及体区的下端更深的深度为止的范围内,并与阳极区相接;第2分离区,其为p型,且被形成在从半导体基板的上表面起到比阳极区的下端以及体区的下端更深的深度为止的范围内,并与体区相接;n型区,其为n型,且被形成在第1分离区和第2分离区之间,从而将第1分离区和第2分离区分离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





