[发明专利]静电吸盘无效
| 申请号： | 200980147292.9 | 申请日： | 2009-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN102308378A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 梅梅特·A·阿克巴斯 | 申请（专利权）人： | M丘比德技术公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/687;H01L21/203;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种静电吸盘，其以吸盘支撑结构和多个离散的静电元件为特征。所述静电元件各具有至少一个附接到电绝缘材料上的电极的端子。所述离散的静电元件的至少一些可移除地附接到所述吸盘支撑结构或附接到插入在所述吸盘支撑结构和所述静电元件之间的基板。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 吸盘 | ||
【主权项】：
一种静电吸盘，所述静电吸盘包括：(a)吸盘支撑结构；及(b)多个静电元件构件，所述多个构件彼此分离，所述元件全部附接到所述吸盘支撑结构，且其中所述元件中的至少一些可移除地附接到所述吸盘支撑结构，所述静电元件各包括至少一个附接到电绝缘材料的电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
