[发明专利]用于制造固态成像装置的方法无效

专利信息
申请号: 200980135702.8 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN102150269A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 渡边万次郎 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/225
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种用于制造固态成像装置的方法,其中以晶片级批量制造大量固态成像装置,所述方法具有:将掩模材料(12)附着至设置有框架形隔体(5)的遮盖玻璃晶片(10),然后将遮盖玻璃晶片(10)细薄化的步骤;剥离掩模材料(12)并将第一支持晶片(14)经由其间的粘合构件(16)粘合至遮盖玻璃晶片的步骤;将硅晶片(18)和遮盖玻璃晶片(10)对齐并将硅晶片和遮盖玻璃晶片彼此粘合的步骤,所述硅晶片(18)具有经由其间的粘合构件(24)粘合在背面的第二支持晶片(22);将遮盖玻璃晶片(10)通过用磨石(26)分割为遮盖玻璃(4)的片的步骤;和通过用磨石(28)将硅晶片(18)分割为片的步骤。
搜索关键词: 用于 制造 固态 成像 装置 方法
【主权项】:
一种用于制造固态成像装置的方法,所述方法包括:在用作遮盖玻璃的基材的透明基板的一个表面上,形成多个框架形隔体和沿所述透明基板的外周包围所述框架形隔体的环形隔体的步骤;在所述透明基板的所述一个表面那侧提供掩模材料,以遮盖所述框架形隔体和所述环形隔体的步骤;从另一个表面那侧移除所述透明基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;从所述透明基板移除所述掩模材料的步骤;将第一支持晶片层压到所述透明基板的另一个表面上的步骤;在半导体基板的一个表面上形成多个固态成像元件的步骤;从另一个表面那侧移除所述半导体基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;将第二支持晶片层压到所述半导体基板的另一个表面上的步骤;将所述半导体基板和所述透明基板经由所述隔体粘合的步骤;从所述透明基板和所述半导体基板剥离所述第一支持晶片和所述第二支持晶片的步骤;将所述透明基板切片的步骤;和将所述半导体基板切片的步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980135702.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top