[发明专利]用于制造固态成像装置的方法无效
申请号: | 200980135702.8 | 申请日: | 2009-09-02 |
公开(公告)号: | CN102150269A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 |
发明(设计)人: | 渡边万次郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/225 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 固态 成像 装置 方法 | ||
1.一种用于制造固态成像装置的方法,所述方法包括:
在用作遮盖玻璃的基材的透明基板的一个表面上,形成多个框架形隔体和沿所述透明基板的外周包围所述框架形隔体的环形隔体的步骤;
在所述透明基板的所述一个表面那侧提供掩模材料,以遮盖所述框架形隔体和所述环形隔体的步骤;
从另一个表面那侧移除所述透明基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;
从所述透明基板移除所述掩模材料的步骤;
将第一支持晶片层压到所述透明基板的另一个表面上的步骤;
在半导体基板的一个表面上形成多个固态成像元件的步骤;
从另一个表面那侧移除所述半导体基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;
将第二支持晶片层压到所述半导体基板的另一个表面上的步骤;
将所述半导体基板和所述透明基板经由所述隔体粘合的步骤;
从所述透明基板和所述半导体基板剥离所述第一支持晶片和所述第二支持晶片的步骤;
将所述透明基板切片的步骤;和
将所述半导体基板切片的步骤。
2.一种用于制造固态成像装置的方法,所述方法的特征在于包括:
在用作遮盖玻璃的基材的透明基板的一个表面上,形成多个框架形隔体和沿所述透明基板的外周包围所述框架形隔体的环形隔体的步骤;
在所述透明基板的所述一个表面那侧提供掩模材料,以遮盖所述框架形隔体和所述环形隔体的步骤;
从另一个表面那侧移除所述透明基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;
从所述透明基板移除所述掩模材料的步骤;
将第一支持晶片层压到所述透明基板的另一个表面上的步骤;
将所述透明基板切片成遮盖玻璃的步骤;
在半导体基板的一个表面上形成多个固态成像元件的步骤;
从另一个表面那侧移除所述半导体基板以将厚度设定到预定范围内的步骤;
将第二支持晶片层压到所述半导体基板的另一个表面上的步骤;
将所述半导体基板和所述遮盖玻璃经由所述隔体粘合的步骤;
从所述透明基板和所述半导体基板剥离所述第一支持晶片和所述第二支持晶片的步骤;和
将所述半导体基板切片的步骤。
3.根据权利要求1或2所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
所述的从另一个表面那侧移除透明基板以将厚度设定到预定范围内的步骤是:用包含氢氟酸作为主要组分的化学药品从另一个表面那侧蚀刻所述透明基板的步骤。
4.根据权利要求3所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
所述掩模材料由耐氢氟酸的材料构成。
5.根据权利要求1或2所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
所述的从另一个表面那侧移除透明基板以将厚度设定到预定范围内的步骤是:通过研磨和/或抛光从另一个表面那侧抛光所述透明基板的步骤。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
所述掩模材料是其中在提供外能时粘合强度降低的单面胶带或者涂布溶液。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
用于将所述透明基板和所述第一支持晶片层压的构件是具有自剥离性的双面胶带或粘合剂。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于制造固态成像装置的方法,其中
用于将所述半导体基板和所述第二支持晶片层压的构件是具有自剥离性的双面胶带或粘合剂。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的