[发明专利]等离子体处理装置、等离子体处理方法和介电体窗的温度调节机构

摘要

本发明提供等离子体处理装置、等离子体处理方法和介电体窗的温度调节机构，能够对使用于等离子体处理的微波透过的介电体窗的温度进行更加精密地控制，实现更加良好的等离子体处理特性。等离子体处理装置(1)具有处理容器(2)、介电体窗(簇射极板)(3)、天线(4)、波导管(5)、冷却块(6)、基板保持台(7)、在处理容器(2)的上部装配的保持环(上板)(15)。通过保持环(15)将介电体窗(3)的周缘部卡定。在天线(4)之上设置内部具有能够流过热介质的冷却流路(6a)的冷却块(6)。在波导管(5)的周围设有温度传感器(16)，对天线(4)等的温度进行检测。在保持环(15)的内部具有灯加热器(151)。介电体窗(3)通过由控制机构控制的冷却块(6)的冷却机构和保持环(15)的加热机构而被控制为规定的温度分布。

主权项

一种等离子体处理装置，包括：能对内部减压的处理容器，该处理容器具有由介电体材料形成的介电体窗；通过上述介电体窗向上述处理容器的内部供给微波的天线；将工艺气体向上述处理容器内供给的气体供给机构；通过辐射线对上述介电体窗进行加热的加热机构；对上述介电体窗进行冷却的冷却机构。