[发明专利]等离子体处理装置、等离子体处理方法和介电体窗的温度调节机构

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：

能对内部减压的处理容器，该处理容器具有由介电体材料形成的介电体窗；

通过上述介电体窗向上述处理容器的内部供给微波的天线；

将工艺气体向上述处理容器内供给的气体供给机构；

通过辐射线对上述介电体窗进行加热的加热机构；

对上述介电体窗进行冷却的冷却机构。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具有：

用于检测上述介电体窗的温度的温度检测机构；

响应通过上述温度检测机构检测的温度，而控制上述加热机构和/或上述冷却机构的控制机构。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述温度检测机构由多个传感器构成，在被分割为多个区域的上述介电体窗的上述每个区域中至少具有1个以上的上述传感器。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述加热机构由与上述介电体窗的侧面相对配置的多个加热器构成，

上述加热器通过上述控制机构进行控制，

对上述介电体窗的周缘部，以针对各加热器独立设定的发热量进行加热。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在上述加热机构与上述介电体窗之间具有遮断上述微波并且使上述加热机构的上述辐射线透过的窗。

6.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在上述加热机构与上述介电体窗之间具有遮断上述微波并且使上述加热机构的上述辐射线透过的窗。

7.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在上述加热机构与上述介电体窗之间具有遮断上述微波并且使上述加热机构的上述辐射线透过的窗。

8.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在上述加热机构与上述介电体窗之间具有遮断上述微波并且使上述加热机构的上述辐射线透过的窗。

9.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述冷却机构，在被分割为多个区域的上述介电体窗的该每个区域中具有热介质的导入口和排出口。

10.根据权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于，

上述冷却机构通过上述控制机构进行控制，以按照上述介电体窗的上述每个区域独立设定的流量使上述热介质流过。

11.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

保持上述加热机构的保持部件，具有用于将上述保持部件的温度维持于规定的温度的温度调整机构。

12.一种等离子体处理方法，其特征在于，

保持加热机构的保持部件，在对至少一个被处理对象物进行等离子体处理期间，通过温度调整机构被保持为一定的温度。

13.一种介电体窗的温度调节机构，作为介电体窗的温度调节机构，其特征在于，具有：

通过辐射线对上述介电体窗进行加热的加热机构；

对上述介电体窗进行冷却的冷却机构；

用于检测上述介电体窗的温度的温度检测机构；

响应通过上述温度检测机构检测的温度，而控制上述加热机构和/或冷却机构的控制机构。

14.根据权利要求13所述的介电体窗的温度调节机构，其特征在于，

上述温度检测机构由多个传感器构成，在被分割为多个区域的上述介电体窗的上述每个区域中至少具有1个以上的上述传感器。

15.根据权利要求14所述的介电体窗的温度调节机构，其特征在于，

上述加热机构，

由与上述介电体窗的侧面相对配置的多个加热器构成，

通过上述控制机构进行控制，

对上述介电体窗的周缘部，以针对各加热器独立设定的发热量进行加热。

16.根据权利要求13所述的介电体窗的温度调节机构，其特征在于，

在上述加热机构与上述介电体窗之间具有遮断上述微波并且使上述加热机构的上述辐射线透过的窗。