[发明专利]具有亲水性中间层的基材和可成像元件有效
| 申请号: | 200980122857.8 | 申请日: | 2009-06-15 |
| 公开(公告)号: | CN102066124A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
| 发明(设计)人: | T·陶;E·克拉克;S·萨赖亚;F·E·米克尔 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号: | B41N3/03 | 分类号: | B41N3/03;G03F7/075 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 范赤;李炳爱 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: |
用于平版印刷版前体的基材,包括金属或聚合物载体和包括如说明书中定义的结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层。对于印刷机内显影,该前体可以是负性工作的,并且具有硫酸阳极化铝载体。 |
||
| 搜索关键词: | 具有 亲水性 中间层 基材 成像 元件 | ||
【主权项】:
1. 一种基材,包括金属或聚合物载体,在所述载体上具有包括具有以下结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层:
其中R1和R2独立地为氢或C1至C6烷基、C1至C6烯基、C1至C6烷氧基、C1至C6酰基、C1至C6酰氧基、苯基、卤素或氰基,或R1和R2可以一起形成环状基团,R3为氢或C1至C6烷基、苯基、卤素或氰基,R4和R5独立地为氢或甲基,R6为氢或C1至C12烷基,X1是-O-或-NR-,其中R为氢或烷基或芳基,X2是-NR'-,其中R'为氢或烷基或芳基,m为15至200的整数,n为1至12的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980122857.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:底部散热菜盘
- 下一篇:一种蚕丝被上的被单结构





