[发明专利]具有亲水性中间层的基材和可成像元件有效

专利信息
申请号: 200980122857.8 申请日: 2009-06-15
公开(公告)号: CN102066124A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: T·陶;E·克拉克;S·萨赖亚;F·E·米克尔 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: B41N3/03 分类号: B41N3/03;G03F7/075
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 范赤;李炳爱
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 亲水性 中间层 基材 成像 元件
【说明书】:

技术领域

发明涉及具有独特中间层的亲水性基材和涉及具有所述亲水性基材的例如负性工作平版印刷版前体的可成像元件。本发明还涉及使用这些可成像元件的方法。

背景技术

辐射敏感组合物通常用于制备可成像材料,包括平版印刷版前体。此类组合物通常包括辐射敏感组分、引发剂体系和基料(binder),其各自都已成为研究焦点,以提供物理性能、成像性能和图像特性方面的各种改进。

印刷版前体领域中的最新发展涉及可以通过激光器或激光二极管成像,和更具体地可以在印刷机内成像和/或显影的辐射敏感组合物的用途。因为激光器可以由计算机直接控制,所以激光器曝光不需要常规的卤化银印刷制版胶片(graphic arts film)作为中间信息载体(或“掩模”)。商业可得的图像照排仪中使用的高性能激光器或激光二极管通常发射波长为至少700 nm的辐射,因此要求辐射敏感组合物在电磁波谱的近红外或红外区域中敏感。但是,其它有用的辐射敏感组合物被设计为用紫外或可见光辐射成像。

存在两种使用辐射敏感组合物制备印刷版的可能方法。对于负性工作印刷版,辐射敏感组合物中的已曝光区域被硬化,未曝光区域在显影过程中被洗掉。对于正性工作印刷版,已曝光区域溶于显影剂,未曝光区域变成图像。

各种负性工作辐射组合物和可成像元件在US 6,309,792 (Hauck等)、6,569,603 (Furukawa) 6,893,797 (Munnelly等)、6,787,281 (Tao等)和6,899,994 (Huang等)、US 2003/0118939 (West等)、2005/0008971 (Mitsumoto等)和2005/0204943 (Makino等)以及EP 1,079,276A (Lifka等)、EP 1,182,033A (Fujimaki等)和EP 1,449,650A (Goto)中描述。

与可成像元件类型无关,通常已经使用聚合物或金属基材(或“载体”),例如包括铝或各种金属组合物的铝合金载体的基材,进行平版印刷。金属片材的表面通常通过表面粒化来变粗糙,以便保证对其上布置的层,通常为可成像层的优良粘合性,以及提高印刷过程中未成像区域中的保水性。各种铝载体材料及其制备方法在US 5,076,899 (Sakaki等)和5,518,589 (Matsura等)中描述。

例如,为制备平版印刷元件的含铝基材,可以例如使用已知的步骤顺序处理连续的未处理铝片。这类步骤可以包括在重新收卷或送至施涂可成像层配制料的涂布单元之前,使连续的铝片穿过制造设备的从铝片去除油类和碎屑的脱脂单元,碱金属蚀刻单元,第一冲洗单元,粒化单元(可以包括机械或电化学粒化,或两者),第二冲洗单元,后粒化酸性-或碱金属-蚀刻单元,第三冲洗单元,使用合适的酸提供阳极氧化物涂层的阳极化单元,第四冲洗单元,后处理单元,最后或第五冲洗单元,以及干燥单元。

在阳极化单元中,铝片被处理,在其表面上形成氧化铝层,这样其将显示印刷工艺期间所必需的高度耐机械磨蚀性。这种氧化物层在某种程度上已经是亲水的,明显对水具有高亲合性以及排斥印刷油墨。但是,该氧化物层过于反应活性,其可能与可成像元件中的可成像层的组分互相作用。该氧化物层可以部分或完全覆盖铝基材表面。

在后处理单元中,用亲水保护层(在本领域中也称为“密封层”、“子层”或“中间层”)覆盖氧化物层,以在施涂一种或多种可成像层配制料之前提高其亲水性。亲水性保护层可以通过(利用任选的回收罐、过滤器和液体输送系统)将片浸渍在后处理溶液中或者通过将溶液喷涂在片上来施加。一种适合的中间层也可以保证在显影期间,可成像层的可溶区域容易从基材去除,不留下残余物并提供干净的亲水性基底。该亲水性中间层也可以保护氧化铝层抵抗用高碱性显影剂显影期间的腐蚀以及保护氧化铝层免受来自可成像层的染料渗透。

其它亲水性中间层由包括聚(乙烯基膦酸)(PVPA)、乙烯基膦酸/丙烯酸(VPA/AA)共聚物和聚(丙烯酸)(PAA)的配制料来制备,例如US 4,153,461 (Berghauser等)和EP 0 537 633B1 (Elsaesser等)中描述的。US 6,218,075 (Kimura等)描述用各种聚(乙烯基膦酸)组合物处理金属基材。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊斯曼柯达公司,未经伊斯曼柯达公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980122857.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top