[发明专利]具有亲水性中间层的基材和可成像元件

权利要求书

1. 一种基材，包括金属或聚合物载体，在所述载体上具有包括具有以下结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层：

其中R¹和R²独立地为氢或C₁至C₆烷基、C₁至C₆烯基、C₁至C₆烷氧基、C₁至C₆酰基、C₁至C₆酰氧基、苯基、卤素或氰基，或R¹和R²可以一起形成环状基团，

R³为氢或C₁至C₆烷基、苯基、卤素或氰基，

R⁴和R⁵独立地为氢或甲基，

R⁶为氢或C₁至C₁₂烷基，

X₁是-O-或-NR-，其中R为氢或烷基或芳基，

X₂是-NR'-，其中R'为氢或烷基或芳基，

m为15至200的整数，n为1至12的整数。

2. 权利要求1的基材，其中R¹和R²独立地为氢或C₁至C₄烷基或苯基，R³为氢或C₁至C₃烷基或苯基，R⁶为C₁至C₄烷基，X₁为-O-、-NH-或-NCH₃-，X₂为-NH-或-NCH₃-，m为20至70的整数，n为2至6的整数。

3. 权利要求2的基材，其中R¹和R²独立地为氢或甲基，R³、R⁴和R⁵独立地为氢或甲基，R⁶为甲基或乙基，X₁为-O-或-NH-，X₂为-NH-，m为25至60的整数，n为2至4的整数。

4. 权利要求1的基材，其中所述中间层为Jeffamine (甲基)丙烯酰胺和3-异氰酸基丙基三乙氧基硅烷的反应产物。

5. 权利要求1的基材，其中所述中间层以至多0.1 g/m²的干燥覆盖度存在。

6. 权利要求1的基材，包括含铝载体。

7. 一种负性工作可成像元件，包括基材，在基材上设置的在暴露于成像辐射之后变得更加不可溶于处理溶液的可成像层，和所述可成像元件在所述基材和所述可成像层之间进一步包括：

包括具有以下结构(I)的三烷氧基甲硅烷基聚乙二醇丙烯酸酯的中间层：

其中R¹和R²独立地为氢或C₁至C₆烷基、C₁至C₆烯基、C₁至C₆烷氧基、C₁至C₆酰基、C₁至C₆酰氧基、苯基、卤素或氰基，或R¹和R²可以一起形成环状基团，

R³为氢或C₁至C₆烷基、苯基、卤素或氰基，

R⁴和R⁵独立地为氢或甲基，

R⁶为氢或C₁至C₁₂烷基，

X₁是-O-或-NR-，其中R为氢或烷基或芳基，

X₂是-NR'-，其中R'为氢或烷基或芳基，

m为15至200的整数，n为1至12的整数。

8. 权利要求7的可成像元件，包括辐射吸收化合物。