[发明专利]微细构造的制作方法以及具备微细构造的基板无效
| 申请号： | 200980105337.6 | 申请日： | 2009-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101970341A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 江龙修;木下隆利;河田研治;堀田和利 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 崔幼平;杨楷 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在表面具有相互平行的直线状的原子台阶的基板上制作出由沿着上述原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造的方法。本发明的方法包括准备表面具有原子台阶的基板的工序以及将线状要素赋予上述基板上的工序。使上述线状要素沿着上述原子台阶延伸地取向，从而在基板上形成由沿着原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造。能够通过使碳化硅基板、蓝宝石基板或者氧化锌基板超平坦化来准备上述基板。作为上述线状要素，能够使用由形成了β片状构造的缩氨酸分子构成的缩氨酸纤维。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 构造 制作方法 以及 具备 | ||
【主权项】：
一种在基板上制作出微细构造的方法，其特征是，包括：准备表面具有原子台阶的基板的工序；通过将线状要素赋予基板上，使线状要素沿着基板表面的原子台阶延伸地取向，从而在基板上形成由沿着原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造的工序。
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