[发明专利]硅基光电异质集成方法及硅基光电异质集成芯片有效

专利信息
申请号: 200910312831.1 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN102117820A 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 刘新宇;周静涛;申华军;张轩雄;刘洪刚;吴德馨 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;G02B6/122;G02B6/26
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种硅基光电异质集成方法及硅基光电异质集成芯片,属于光电异质集成技术领域。所述方法包括:在硅晶片上设置硅基无源光子器件作为光信息传输通道;在III-V族晶片中设置CMOS微电子集成电路;在III-V族晶片上通过一次外延实现有源光子器件和CMOS微电子集成电路的有源区多层量子阱结构;采用整片的晶片键合工艺在硅晶片上键合III-V族晶片;在III-V族晶片中设置光耦合器。本发明在同一III-V族材料层中实现了微电子电路和有源光子器件的集成,为硅基光电异质集成芯片的研制和应用提供了可行性;本发明可广泛应用于研制下一代高密度、大容量、多功能的单片集成光电芯片。
搜索关键词: 光电 集成 方法 芯片
【主权项】:
一种硅基光电异质集成方法,其特征在于,所述方法包括:在硅晶片上设置硅基无源光子器件作为光信息传输通道;在III‑V族晶片中设置CMOS微电子集成电路,用于高速信息处理;在所述III‑V族晶片中设置有源光子器件,用于光、电信息间的高速转换;在所述III‑V族晶片上通过一次外延实现所述有源光子器件和CMOS微电子集成电路的有源区多层量子阱结构以及刻蚀停止层;采用整片的晶片键合工艺在所述硅晶片上键合所述III‑V族晶片;在所述III‑V族晶片中设置光耦合器,用于所述有源光子器件和硅基无源光子器件间的高效光耦合。
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