[发明专利]一种物理气相沉积设备备件清洗方法无效
| 申请号： | 200910243845.2 | 申请日： | 2009-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102108482A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 肖士悦;崔晓娟;张明才;禤亮 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23G1/12 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种物理气相沉积设备备件清洗方法，对铝腔备件使用含有磷酸和去离子水的混合溶液去除铝膜层，然后使用硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液浸泡并冲洗或者喷砂的方式进行后处理，对钛腔备件使用含有双氧水和氢氧化铵混合溶液去除钛膜层，然后使用含有硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液浸泡并冲洗或者喷砂的方式进行后处理，对反溅腔备件，使用含有硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液去除备件表面的氧化层，本发明可以较好地去除备件表面粘附的金属层或氧化层，在保证生产需要的清洁程度的前提下，具有简单易行、不受场地限制、耗时短的优点，能够更好地保证生产进度的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理 沉积 设备 备件 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种物理气相沉积PVD设备中铝腔备件的清洗方法，其特征在于，包括：步骤A、将铝腔备件放入含有磷酸和去离子水的混合溶液中浸泡，去除所述备件表面附着的金属铝膜层；步骤B、将经步骤A处理的铝腔备件放入含有硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液中浸泡并冲洗，或将经步骤A处理的铝腔备件的表面进行喷砂处理。
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