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[发明专利]磁控溅射装置-CN201410264625.9有效
发明人： 肖士悦;史鹏 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2014-06-13 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁控溅射装置，包括报警系统，所述报警系统包括感应模块、报警控制模块和报警模块；其中，感应模块，用于检测对应的挡板shutter是否开关到位，并将检测结果发送到报警控制模块；报警控制模块，用于根据所述感应模块发送的检测结果判断所述shutter是否开关到位，并在判断为否时，向所述报警模块输出报警信号；报警模块，用于在接收到报警信号后产生报警。本发明提供的磁控溅射装置，能够在shutter没有开关到位时及时产生报警，从而使操作人员及时感知，从而避免由此引起的产品异常。
磁控溅射装置

[实用新型]一种隔离阀开关信号检测设备-CN201220661811.2有效
发明人：吴天亮;肖士悦 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2012-12-04 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： F16K37/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例涉及半导体技术领域，特别涉及一种隔离阀开关信号检测设备，用以解决由于反弹片丧失传递能力，机台无法检测开、关门信号的问题。本实用新型实施例提供的隔离阀开关信号检测的设备，包括隔离阀气缸、隔离阀气缸轴、拉杆、开门开关和关门开关，拉杆包括第一顶杆，气缸轴包括第二顶杆；气缸轴在气缸内下行，带动第一顶杆，将关门开关由第一状态变为第二状态；气缸轴在气缸内上行，带动第一顶杆，将关门开关由第二状态变为第一状态；气缸轴在气缸内下行，带动第二顶杆，将开门开关由第二状态变为第一状态；气缸轴在气缸内上行，带动第二顶杆，将开门开关由第一状态变为第二状态。本实用新型实施例实现了机台能够长期稳定地检测信号。
一种隔离开关信号检测设备

[发明专利]一种物理气相沉积设备备件清洗方法-CN200910243845.2无效
发明人： 肖士悦;崔晓娟;张明才;禤亮 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2009-12-23 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种物理气相沉积设备备件清洗方法，对铝腔备件使用含有磷酸和去离子水的混合溶液去除铝膜层，然后使用硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液浸泡并冲洗或者喷砂的方式进行后处理，对钛腔备件使用含有双氧水和氢氧化铵混合溶液去除钛膜层，然后使用含有硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液浸泡并冲洗或者喷砂的方式进行后处理，对反溅腔备件，使用含有硝酸、氢氟酸和去离子水的混合溶液去除备件表面的氧化层，本发明可以较好地去除备件表面粘附的金属层或氧化层，在保证生产需要的清洁程度的前提下，具有简单易行、不受场地限制、耗时短的优点，能够更好地保证生产进度的需要。
一种物理沉积设备备件清洗方法

[实用新型]溅射金属膜机台-CN200820080242.6有效
发明人： 肖士悦;崔晓娟;禤亮;张明才 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2008-04-28 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种溅射金属膜机台，为了利用现有溅射金属膜机台进行生成TiN的工艺反应，该机台包括：腔体11，腔体11外接用于引入氩气气体的管路12和用于引入去除腔体真空的氮气气体的管路13，管路12上串接开关121，管路13上串接开关132，管路13的靠近腔体部分131一端与腔体11相连，另一端通过三通接头14连接管路13的远离腔体部分133和用于引入用于反应的氮气气体的管路15，管路15上串接开关151，开关121和开关151与联动机构16相连，开关132串接于管路13的远离腔体部分133，由于新增管路15，使得改造后的溅射金属膜机台能够接入N2反应气体，并进行生成TiN的工艺反应。
溅射金属膜机台