[发明专利]一种矩形化学气相沉积反应器

摘要

一种矩形化学气相沉积反应器，涉及半导体和光电薄膜化学气相沉积技术领域。其特征在于：将传统的圆柱形反应腔改为长方体或正方体反应腔，将旋转的圆形托盘改为来回移动的矩形托盘，将圆形喷淋头改为若干条平行的下端开有密布小喷孔的喷淋管。生长时，反应气体从喷淋管下方的小喷孔均匀喷向下方的晶片，反应后的气体从喷淋管的两侧向上返回，一直到上方的出口排出。由于每个喷孔下方的气流都为独立的滞止流，而与周围环境无关，通过矩形托盘的来回往复移动，使得晶片上的每一点轮流受到同样浓度的气流喷射，从而实现均匀的薄膜生长。

主权项

一种矩形化学气相沉积反应器，其特征在于：将传统的圆柱形反应腔改为长方体或正方体反应腔，将旋转的圆形托盘改为来回移动的矩形托盘(4)，将圆形喷淋头改为若干条平行的喷淋管(2)。