[发明专利]具有局部互连的半导体器件有效

专利信息
申请号: 200910173417.7 申请日: 2009-09-16
公开(公告)号: CN101677102A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 庄学理;郑光茗;锺升镇;梁孟松 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L23/52;H01L23/522
代理公司: 北京市德恒律师事务所 代理人: 梁 永
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供了一种具有局部互连的半导体器件。所述半导体器件包括:布置在衬底上并且基本上在同一直线上的第一栅线结构和第二栅线结构。第一对源/漏区域被形成在第一栅线结构的两侧上的衬底里,并且,第二对源/漏区域被形成在第二栅线结构的两侧上的衬底里。一对导线被布置在第一栅线结构和第二栅线结构的两侧上的衬底上,这样,每一根导线被连接到第一对源/漏区域中的一个区域和第二对源/漏区域中的一个区域上。
搜索关键词: 具有 局部 互连 半导体器件
【主权项】:
1.一种具有局部互连的半导体器件,包括:布置在衬底上并且基本上在同一直线上的第一栅线结构和第二栅线结构;形成在第一栅线结构的两侧上的衬底里的第一对源/漏区域,以及,形成在第二栅线结构的两侧上的衬底里的第二对源/漏区域;和布置在第一栅线结构和第二栅线结构的两侧上的衬底上的一对导线,这样,每一根导线被连接到第一对源/漏区域中的一个区域和第二对源/漏区域中的一个区域上。
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