[发明专利]光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法

摘要

本发明提供了一种光酸产生剂、共聚物、化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。所述光酸与所述共聚物的主链有联系，借此，所述光酸被等同地分散在抗蚀剂层内部，且抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性被提高。

主权项

1.一种由化学式1表示的光酸产生剂，[化学式1]其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，[化学式2]其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。