[发明专利]半导体发光装置无效

专利信息
申请号: 200910132585.1 申请日: 2005-11-11
公开(公告)号: CN101527343A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 小屋贤一;岸本幸男 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈 萍
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的半导体发光装置(100)具有如下结构:具备衬底部件(130)和配置在上述衬底部件(130)上的半导体发光元件(110),上述衬底部件(130)具备:基板(131);电极部(正电极134、负电极135、凸块140~144),配置在上述基板(131)的上表面上,与上述半导体发光元件(110)直接接触;及反射部(132),配置在上述基板(131)的上表面上,不与上述半导体发光元件(110)及上述电极部直接接触。从而能够提供一种半导体发光装置,不管反射率高的材料是否适合作为电极,可以用它将输出光高效地输出到外部。
搜索关键词: 半导体 发光 装置
【主权项】:
1.一种半导体发光装置,其特征在于,具备衬底部件和配置在上述衬底部件上的半导体发光元件,上述衬底部件具备:基板;电极部,配置在上述基板的上表面上,与上述半导体发光元件直接接触;及反射部,配置在上述基板的上表面上,不与上述半导体发光元件及上述电极部直接接触;上述电极部包括形成在上述基板的上述上表面上的电极、以及将上述半导体发光元件和上述电极电连接的连接部;上述反射部由Al或包含Al的合金形成;上述电极由Au或以Au为主成分的合金形成时,上述半导体发光元件发出的光的波长带是200nm以上、600nm以下;上述电极由Pt或以Pt为主成分的合金形成时,上述波长带是200nm以上、800nm以下;上述电极由Cu或以Cu为主成分的合金形成时,上述波长带是200nm以上、630nm以下;上述电极由Ni或以Ni为主成分的合金形成时,上述波长带是200nm以上、800nm以下;上述电极由Rh或以Rh为主成分的合金形成时,上述波长带是200nm以上、800nm以下。
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