[发明专利]一种氮化镓太阳能同位素复合型微电池及其制作方法无效
申请号: | 200910082827.0 | 申请日: | 2009-04-22 |
公开(公告)号: | CN101521240A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
发明(设计)人: | 姜澜;朵英贤;李遂贤;陈海洋;王婷 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;G21H1/06;H01L31/0304;H01L31/0216;H01L31/02;H01L31/18 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 100081北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明为一种氮化镓太阳能同位素复合型微电池及其制作方法,属于微机电系统中的能源领域。本发明的结构为:光学增透膜/蓝宝石基片/P型GaN外延生长层/N型GaN外延生长层/P型GaN外延生长层/同位素放射层。本发明的制作方法首先在基底的一侧镀制一层光学增透膜,然后在基底另一侧利用金属有机物化学气象沉淀工艺,依次生长两个背靠背PN结,最后在PN结外侧固定同位素放射层。本发明克服了太阳能电池仅有光照下才可提供电能的局限;同时克服了同位素电池的功率输出小的局限;光照条件下,本发明相对同参数的同位素微电池输出功率提高10倍以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 太阳能 同位素 复合型 电池 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1. 一种氮化镓太阳能同位素复合型微电池,其特征在于结构为:光学增透膜/蓝宝石基片/P型GaN外延生长层/N型GaN外延生长层/P型GaN外延生长层/同位素放射层;其中:光学增透膜为0.2μm的SiO2薄膜;蓝宝石基片的厚度为0.1-1mm,双面抛光;内层P型GaN外延生长层的厚度为0.3-0.5μm,掺杂浓度为1016-17cm-1的Si;N型GaN外延生长层的厚度为2-5μm,掺杂浓度为1018-19cm-1的Mg;外层P型GaN外延生长层的厚度为0.2-0.5μm,掺杂浓度为1016-17cm-1的Si;同位素放射性层为63Ni金属,采用镀制法的厚度为1-2μm,采用紧固法的厚度为20-100μm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的