[发明专利]静态随机存取存储器有效

专利信息
申请号: 200910056134.4 申请日: 2009-08-07
公开(公告)号: CN101989456A 公开(公告)日: 2011-03-23
发明(设计)人: 黄艳;黄威森;顾一鸣 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;H01L27/11
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 牛峥;王丽琴
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种静态随机存取存储器(SRAM),在制作SRAM时,重新制造掩模版上的AA图形,使该掩膜版的AA图形中,接近场效应晶体管PG_1的栅极区域的拐角区域为非直角,接近场效应晶体管PG_r的栅极区域的拐角区域为非直角,非直角的拐角区域可以为曲面或楼梯形。因此,本发明防止了最终形成的SRAM性能失配。
搜索关键词: 静态 随机存取存储器
【主权项】:
一种静态随机存储器,包括场效应晶体管PG_1的栅极空置,漏极接入一个位线BL,源极分别接入场效应晶体管PU_1的漏极和场效应晶体管PU_r的栅极;PG_r的栅极空置,漏极接入另一个位线BLB,源极分别接入场效应晶体管PU_r的漏极和场效应晶体管PU_1的栅极;场效应晶体管PU_1的源极接Vcc,漏极和栅极分别与场效应晶体管PD_1的漏极和栅极相连;场效应晶体管PD_r的源极接入Vss,漏极和栅极分别与场效应晶体管PD_1的漏极和栅极相连;场效应晶体管PU_r的源极接入电压Vcc,漏极和栅极分别与场效应晶体管PD_r的漏极和栅极相连;场效应晶体管PD_1的源极接入地Vss,漏极和栅极分别与场效应晶体管PD_r的漏极和栅极相连;在布图时,场效应晶体管PG_1、场效应晶体管PG_r、场效应晶体管PU_1、场效应晶体管PU_r、场效应晶体管PD_1和场效应晶体管PD_r的源漏极作为有源区域,与场效应晶体管PG_1、场效应晶体管PG_r、场效应晶体管PU_1、场效应晶体管PU_r、场效应晶体管PD_1和场效应晶体管PD_r的栅极区域在图上有部分重叠,其特征在于,接近场效应晶体管PG_1的栅极区域的有源区域图形的拐角区域为非直角结构,接近场效应晶体管PG_r的栅极区域的有源区域图形的拐角区域为非直角结构。
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