[发明专利]掩模版承版台及其光刻设备和双曝光方法有效
| 申请号： | 200910048281.7 | 申请日： | 2009-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101526754A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 齐宁宁;齐芊枫;李志龙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩模版承版台，包括：掩模版保持架；第一掩模版安装位与第二掩模版安装位，设置于所述掩模版保持架上；标记版安装位，设置于所述掩模版保持架中间位置；多个掩模版真空吸附槽，分别设置于所述第一掩模版安装位与第二掩模版安装位中，用以吸附固定掩模版；角锥棱镜安装位，设置于所述掩模版保持架的一侧，用于安装角锥棱镜；微动电机安装位，设置于所述掩模版保持架上；反射镜镀膜面，位于所述掩模版保持架的一侧面。综上所述，本发明利用掩模版承版台将两块不同的掩模版依次在同一个涂胶层上分别进行独立的曝光，双曝光技术可以将二维的图案分解为两个更容易精确地生成的一维图案。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 承版台 及其 光刻 设备 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版承版台，其特征在于，包括：掩模版保持架；第一掩模版安装位与第二掩模版安装位，设置于所述掩模版保持架上；标记版安装位，设置于所述掩模版保持架中间位置；多个掩模版真空吸附槽，分别设置于所述第一掩模版安装位与第二掩模版安装位中，用以吸附固定掩模版；角锥棱镜安装位，设置于所述掩模版保持架的一侧，用于安装角锥棱镜；微动电机安装位，设置于所述掩模版保持架上；反射镜镀膜面，位于所述掩模版保持架的一侧面。
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