[发明专利]掩模版承版台及其光刻设备和双曝光方法

权利要求书

1.一种掩模版承版台，其特征在于，包括：

掩模版保持架；

第一掩模版安装位与第二掩模版安装位，设置于所述掩模版保持架上；

标记版安装位，设置于所述掩模版保持架中间位置；

多个掩模版真空吸附槽，分别设置于所述第一掩模版安装位与第二掩模版 安装位中，用以吸附固定掩模版；

角锥棱镜安装位，设置于所述掩模版保持架的一侧，用于安装角锥棱镜；

微动电机安装位，设置于所述掩模版保持架上；

反射镜镀膜面，位于所述掩模版保持架的一侧面。

2.根据权利要求1所述的掩模版承版台，其特征在于，其中所述第一掩模 版安装位与第二掩模版安装位为低于所述掩模版保持架上表面的方形凹槽。

3.根据权利要求1所述的掩模版承版台，其特征在于，还包括：角锥棱镜， 安装于所述角锥棱镜安装位。

4.根据权利要求1所述的掩模版承版台，其特征在于，还包括：掩模版固 定架，以辅助固定所述掩模版。

5.根据权利要求1所述的掩模版承版台，其特征在于，还包括：气孔堵头， 以封住所述掩模版保持架上的气路工艺孔。

6.根据权利要求1所述的掩模版承版台，其特征在于，还包括：微动电机， 设置于所述微动电机安装位，用以控制所述掩模版承版台的运动和姿态。

7.根据权利要求6所述的掩模版承版台，其特征在于，所述微动电机包括： 直线电机，以及音圈电机。

8.一种光刻设备，包括：

提供辐射束的照明系统；

将辐射光束投影到基底目标位置的投影系统；

用于支撑掩模设备的掩模版承版台及用于支撑基底的工件台结构；

其特征在于，所述掩模版承版台包括：

掩模版保持架；

第一掩模版安装位与第二掩模版安装位，设置于所述掩模版保持架上；

标记版安装位，设置于所述掩模版保持架中间位置；

多个掩模版真空吸附槽，分别设置于所述第一掩模版安装位与第二掩模版 安装位中，用以吸附固定掩模版；

角锥棱镜安装位，设置于所述掩模版保持架的一侧，用于安装角锥棱镜；

微动电机安装位，设置于所述掩模版保持架上；

反射镜镀膜面，位于所述掩模版保持架的一侧面。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，所述第一掩模版安装位 与第二掩模版安装位为低于所述掩模版保持架上表面的方形凹槽。

10.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，还包括角锥棱镜，安装 于所述角锥棱镜安装位。

11.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，还包括掩模版固定架， 以辅助固定所述掩模版。

12.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，还包括气孔堵头，以封 住所述掩模版保持架上的气路工艺孔。

13.根据权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，还包括微动电机，设置 于所述微动电机安装位，用以控制所述掩模版承版台的运动和姿态。

14.根据权利要求13所述的光刻设备，其特征在于，所述微动电机包括直 线电机，以及音圈电机。