[发明专利]紫外线照射装置及紫外线照射处理装置有效
| 申请号: | 200910004700.7 | 申请日: | 2009-03-06 |
| 公开(公告)号: | CN101527255A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
| 发明(设计)人: | 远藤真一;菅敏幸;石原肇 | 申请(专利权)人: | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/268;B08B7/00;H01L21/312;G03F7/26 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 黄剑锋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明的目的是提供可将非活性气体快速地充满于准分子灯的周围的紫外线照射装置。本发明的紫外线照射装置,具有:多个准分子灯,所述准分子灯在放电容器内形成的密闭空间中封入有放电气体,并且隔着该密闭空间在上述放电容器的外表面形成有一对电极;灯罩,包围该多个准分子灯且垂直方向的一个方向被开口,及气体供给机构,用来将非活性气体供给给该灯罩的内部。其特征为:在上述灯罩内,空间封闭体被配置于由上述准分子灯所占有的空间以外的空间。 | ||
| 搜索关键词: | 紫外线 照射 装置 处理 | ||
【主权项】:
1.一种紫外线照射装置,其具有:多个准分子灯,所述准分子灯是在放电容器内形成的密闭空间中封入放电气体,并且隔着该密闭空间在上述放电容器的外表面形成有一对电极;灯罩,包围该多个准分子灯并在垂直方向的一个方向开口;及气体供给机构,用于将非活性气体供给该灯罩的内部,该紫外线照射装置其特征为:在上述灯罩内,空间封闭体被配置于由上述准分子灯所占有的空间以外的空间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于优志旺电机株式会社,未经优志旺电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910004700.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





