[发明专利]紫外线照射装置及紫外线照射处理装置

说明书

技术领域

本发明是涉及紫外线照射处理装置，尤其是涉及在半导体基板或液晶 基板等的制造工序中，使用被利用在半导体基板或液晶基板的洗净等的准 分子灯的紫外线照射装置及紫外线照射处理装置。

背景技术

在最近的半导体基板或是液晶基板等的制造工序中，作为除去附着于 半导体基板的硅片或液晶基板的玻璃基板的表面的有机化合物等的污垢的 方法，使用紫外线的干式洗净方法被广泛地利用。尤其是在使用从准分子 灯所放射的真空紫外光的臭氧或活性氧气的洗净方法中，提案有更有效率 且在短时间洗净的各种洗净装置，例如，公知有如专利文献1。

图13是表示公开在同文献的现有的紫外线照射处理装置的结构。根据 现有的紫外线照射处理装置，在开放灯罩A的顶部，例如在不锈钢板形成 多个3mm间距的直径2mm的孔，并成为开口率40％的多孔气体扩散板B 配置成与开放灯罩A的开放面平行。在支撑板C，在由该气体扩散板B所 区划的空间形成有连续的气体供给口CA，而在支撑板C上从上方设有气 体供给导管D来覆盖上述气体供给口CA。在该气体供给导管D，连接有 未图示的氮气供给源，成为将清净的氮气(非活性气体)经气体供给导管D 及气体供给口CA供给于气体扩散板B上方的空间，而这些结构构成了气 体供给单元E。在运送室F内，构成运送机构G的多根运送机轴H为向与 工件W的运送方向正交的方向设置成旋转自如的状态，工件W载放于设 在这些各运送机轴H的多个运送滚子而被运送。另外，在运送室F的底部， 设有相连在未图示的排气装置的排气导管I，并作成可排出在内部与向运送 室F内供给的氮气一起所产生的臭氧等。

如图13的箭号所示，依照上述构成的紫外线照射处理装置，氮气体从 设于灯罩A内的气体扩散板B的微细孔向下方被吐出。被吐出的氮气体， 是首先相撞于准分子灯J的平坦面，在这里向横方向改变流动，从准分子 灯的两侧部向工件W表面笔直地流动掉落。所以，从准分子灯J的周围一 直到工件W的紫外线照射空间X，以氮气的流动充满着全体，而被维持在 几乎不存在氧气的非活性气体环境。因此，从准分子灯J所放射的紫外光 是几乎不会被氧气所吸收而到达至紫外线照射空间X，工件W表面的紫外 线强度是与现有情况相比较会长足地变高。

专利文献1：日本特开2005-197291号。

可是，根据上述的现有的紫外线照射处理装置，为了快速地进行工件 W的处理，成为必须从准分子灯J的周围一直到准分子灯J与工件W之间 的紫外线空间X用氮气快速地充满的情形。然而，如图13所示，在现有紫 外线照射处理装置中，互相地邻接的多个准分子灯J配置成隔着规定间隔， 因而不得不增大开放灯罩A的内容积。所以，从配置于开放灯罩A的内部 的多个准分子灯J的周围一直到工件W的紫外线照射空间X以非活性气体 的流动来充满，而成为必须经气体供给导管D及气体供给口CA供给大量 的非活性气体，并存在成本变高的这样的问题。另外，用于将大量的非活 性气体经气体扩散板B的微细孔因将非活性气体充满于准分子灯J的周围 需要长时间，而不得不降低工件W的运送速度，存在降低生产量的这样的 问题。

由此，在本发明中，其目的是提供可将非活性气体快速地充满于准分 子灯的周围的紫外线照射装置及具备紫外线照射装置的紫外线照射处理装 置。

发明内容

本发明的紫外线照射装置，具有：多个准分子灯，所述准分子灯在被 形成于放电容器内的密闭空间封入有放电气体，并且隔着该密闭空间在上 述放电容器的外表面形成有一对电极；灯罩，包围该多个准分子灯且垂直 方向的一个方向开口；及气体供给机构，用于将非活性气体供给给该灯罩 的内部，该紫外线照射装置其特征为：在上述灯罩内，空间封闭体被配置 由上述准分子灯所占有的空间以外的空间。

另外，本发明的紫外线照射装置，其特征为：是在互相邻接的上述准 分子灯之间配置有上述空间封闭体，而该空间封闭体的基端部被固定于上 述灯罩的顶部。

本发明的紫外线照射装置，是在近年来，被要求对于大面积的被处理 体照射紫外线，因此，就必须增加被收容于灯罩内的准分子灯的发光长度。 例如，一边运送被处理体一边对于被处理体照射紫外线时，准分子灯的发 光长度必须作成对于被处理体的运送方向正交的方向的全长度还要长。