[发明专利]沉积方法无效
| 申请号： | 200880023588.5 | 申请日： | 2008-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN101688305A | 公开（公告）日： | 2010-03-31 |
| 发明（设计）人： | S·J·赫斯特;G·贝尼托古铁雷斯;T·D·曼宁;K·D·桑德森 | 申请（专利权）人： | 皮尔金顿集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/453 | 分类号： | C23C16/453 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 英国默*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 使用火焰热解(其优选是燃烧化学气相沉积法)在浮法玻璃或轧制玻璃生产过程期间所产生的玻璃带上沉积防反射二氧化硅涂层。所述玻璃带的温度大于200℃。该方法可在浮法浴槽或轧辊和退火窑之间的间隙进行。涂层的耐久性可通过烧结得到提高。设备优选包含接邻每个燃烧器头部布置的抽吸单元。在另外实施方案中，将另外的氧引入到该气相沉积法中以产生具有较低有效折射率的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在所生产的连续玻璃带的至少一个表面上沉积防反射涂层的方法，该方法作为浮法玻璃法或轧制玻璃法的一部分，所述方法的特征在于使用火焰热解沉积法沉积所述防反射层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
