[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

摘要

从一晶圆载台(WST1)位于形成液浸区域(14)的投影光学系统(PL)下方的区域的状态转移至另一晶圆载台(WST2)位于形成液浸区域(14)的投影光学系统(PL)下方的区域的状态时，使分别设于两晶圆载台(WST1，WST2)的檐部(23a’)与段部(23b)卡合，并在X轴方向错开的状态下，使两晶圆载台(WST1，WST2)沿Y轴方向接近或接触，并维持该状态沿Y轴方向同时驱动两晶圆载台(WST1，WST2)。藉此，液浸区域即透过檐部在两个晶圆载台间进行交接，并抑制形成液浸区域的液体的泄漏。

主权项

1、一种曝光装置，透过光学系统与液体通过能量束使物体曝光，其特征在于，所述的曝光装置包括：第一移动体，可装载所述物体，并可在包含第一区域与第二区域的既定范围区域内实质上沿既定平面移动，所述第一区域包含被供应所述液体的紧邻所述光学系统下方的液浸区域，所述第二区域是取得位于所述第一区域的第一方向一侧的所述物体的位置信息的区域；第二移动体，可装载所述物体，并可在包含所述第一区域与所述第二区域的区域内实质上沿所述既定平面与所述第一移动体独立移动；以及移动体驱动系统，实质上沿所述既定平面驱动所述第一移动体、第二移动体，且从一移动体位于所述第一区域的第一状态迁移至另一移动体位于所述第一区域的第二状态时，在所述第一移动体与所述第二移动体于所述既定平面内的与所述第一方向垂直的第二方向错开、且在所述第一方向维持透过彼此的对向面的一部分接近或接触的并列状态下，将所述第一移动体、第二移动体同时驱动于所述第一方向。