[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

说明书

技术领域

本发明是关于曝光装置、曝光方法以及元件制造方法，特别是关于在制造半导体元件等微型元件的微影工艺所使用的曝光装置、曝光方法以及使用该曝光方法的元件制造方法。

背景技术

以往，在制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子元件(微型元件)的微影工艺中，主要是使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进器)、或步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进器(亦称为扫描器))等。

此种曝光装置中，为了提升投影光学系统的解析度，一直谋求曝光用光的短波长化与增大投影光学系统的数值孔径(高NA化)。然而，因曝光用光的短波长化及投影光学系统的高NA化而导致焦点深度逐渐变窄。因此，作为实质上缩短曝光波长且扩大(加宽)相较于空气中的焦点深度的方法，使用液浸法的曝光装置近年来已逐渐受到重视。

另一方面，对曝光装置除了高解析度以外亦要求必须具有高产能。提升产能的方法，已提出有各种双晶圆载台型的曝光装置，其是采用设置多个例如2个用以保持晶圆的晶圆载台，并以该2个晶圆载台同时并行处理不同的动作的方法。

再者，最近亦提出有一种采用液浸曝光法的双晶圆载台型的曝光装置(例如，参照专利文献1)。

此外，已知有一种Z干涉仪(例如，参照专利文献2)，其是在测量与晶圆载台的XY平面正交的Z轴方向的位置(高度)时，将相对于XY平面倾斜既定角度例如45°的反射面(Z测量用反射面)设置于晶圆载台的侧面，以对该反射面照射平行于XY平面的测距光束，并接收该光束的返回光，藉此测量晶圆载台的高度。

然而，在与例如专利文献1相同类型的曝光装置采用上述Z干涉仪时，最好构成为各晶圆载台皆可从两侧以Z干涉仪进行高度测量。然而，如此一来，如专利文献2所揭示，在使2个晶圆载台接触或接近，并于两晶圆载台间交接液浸区域(液体)时，有Z测量用反射面彼此会接触而造成损伤之虞。又，若为了避免此种情况的发生而在2个晶圆载台分离的状态下进行液浸区域的交接时，则液体会从两晶圆载台间漏出，而有无法进行液浸区域的交接之虞。又，亦有因漏出的液体而弄湿Z测量用反射面之虞。又，即使在不使用Z测量用反射面的情况下，只要至少一晶圆载台具有较其他部分突出的机构部等时，当使2个晶圆载台接触或接近，以于两晶圆载台间交接液浸区域(液体)时，亦可能产生与上述相同的问题。

专利文献1：美国专利第7,161,659号说明书

专利文献2：美国专利第6,208,407号说明书

发明内容

根据第一观点，本发明的曝光装置，透过光学系统与液体通过能量束使物体曝光，其特征在于，包括：第一移动体，可装载该物体，并可在包含第一区域与第二区域的既定范围区域内实质上沿既定平面移动，该第一区域包含被供应该液体的紧邻该光学系统下方的液浸区域，该第二区域是取得位于该第一区域的第一方向一侧的该物体的位置信息的区域；第二移动体，可装载该物体，并可在包含该第一区域与该第二区域的区域内实质上沿该既定平面与该第一移动体独立移动；以及移动体驱动系统，实质上沿该既定平面驱动该第一、第二移动体，且从一移动体位于该第一区域的第一状态迁移至另一移动体位于该第一区域的第二状态时，在该第一移动体与该第二移动体于该既定平面内的与该第一方向垂直的第二方向错开、且在该第一方向维持透过彼此的对向面的一部分而接近或接触的并列状态下，将该第一、第二移动体同时驱动于该第一方向。

据此，可在维持第一、第二移动体的并列状态下，使第一、第二移动体沿第一方向移动，并使液体不会从两移动体之间泄漏，而在两移动体之间交接液浸区域。藉此，不须要液浸区域的液体的全回收及再次供应等作业。又，相较于使第一及第二移动体从第二方向接近或接触的情形，可缩短两移动体的移动距离(移动行程)。又，通过使两移动体在第二方向为错开的状态且在该第一方向透过彼此的对向面的一部分而接近或接触，即可进一步缩短两移动体的移动行程。因此，可使产能提升。

根据第二观点，本发明的曝光方法，透过光学系统与液体通过能量束使物体曝光，其特征在于：将第一移动体与第二移动体，在错开于第二方向的状态下，且在第一方向维持接近或接触的并列状态下，同时驱动于该第一方向，藉此将液浸区域从一移动体交接至另一移动体，并从一移动体位于第一区域的第一状态迁移至另一移动体位于该第一区域的第二状态，该第一移动体与第二移动体，可装载该物体，并可在包含该第一区域与第二区域的既定范围区域内实质上沿既定平面分别独立移动，该第一区域包含被供应该液体的紧邻该光学系统下方的液浸区域，该第二区域是取得位于该第一区域的该第一方向一侧的该物体的位置信息的区域。