[发明专利]曝光装置、曝光方法以及元件制造方法有效
申请号: | 200880011784.0 | 申请日: | 2008-11-04 |
公开(公告)号: | CN101675500A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
1.一种曝光装置,透过光学系统与液体通过能量束使物体曝光,其特征在于,所述的曝光装置包括:
第一移动体,可装载所述物体,并可在包含第一区域与第二区域的既定范围区域内实质上沿既定平面移动,所述第一区域包含被供应所述液体的紧邻所述光学系统下方的液浸区域,所述第二区域是取得位于所述第一区域的第一方向一侧的所述物体的位置信息的区域;
第二移动体,可装载所述物体,并可在包含所述第一区域与所述第二区域的区域内实质上沿所述既定平面与所述第一移动体独立移动;以及
移动体驱动系统,实质上沿所述既定平面驱动所述第一移动体、第二移动体,且从一移动体位于所述第一区域的第一状态迁移至另一移动体位于所述第一区域的第二状态时,在所述第一移动体与所述第二移动体于所述既定平面内的与所述第一方向垂直的第二方向错开、且在所述第一方向维持透过彼此的对向面的一部分接近或接触的并列状态下,将所述第一移动体、第二移动体同时驱动于所述第一方向。
2.如权利要求1所述的曝光装置,其中,于所述第一移动体的所述第二方向的至少一侧设有相对所述既定平面呈倾斜的反射面;
于所述第二移动体的所述第二方向的至少一侧设有相对所述既定平面呈倾斜的反射面。
3.如权利要求1所述的曝光装置,其中,所述移动体驱动系统,在使所述第一移动体与所述第二移动体的端部彼此在所述第二方向维持至少较紧邻所述光学系统下方的液浸区域宽的彼此对向的所述并列状态下,将所述第一、第二移动体同时驱动于所述第一方向。
4.如权利要求1所述的曝光装置,其中,所述第一移动体在所述第二方向,在于所述液浸区域一侧相距既定距离的第一位置与所述液浸区域附近的第二位置间的既定范围区域内移动;
所述第二移动体在所述第二方向,在于所述液浸区域另一侧相距既定距离的第三位置与所述液浸区域附近的第四位置间的既定范围区域内移动。
5.如权利要求4所述的曝光装置,其中,在所述并列状态下,使所述第一移动体在所述第一方向的任一端部及在所述第二方向另一侧的端部接近或接触所述第二移动体。
6.如权利要求5所述的曝光装置,其中,在所述并列状态下,使所述第二移动体在所述第一方向的任一端部及在所述第二方向一侧的端部接近或接触所述第一移动体。
7.如权利要求4所述的曝光装置,其中,在所述第一、第二移动体中至少一者的至少所述第一方向一侧突设交接部,所述交接部,其上面与所述第一、第二移动体的上面呈大致相同面高的状态,所述第二方向的宽度宽于所述液浸区域;
在所述第一状态与第二状态间的状态迁移时,通过所述移动体驱动系统,使所述第一移动体与所述第二移动体透过所述交接部维持所述并列状态。
8.如权利要求7所述的曝光装置,其中,所述交接部,是在所述并列状态时能彼此对向的状态下分别突设于所述第一、第二移动体各自的所述第一方向的两侧。
9.如权利要求7所述的曝光装置,其中,所述第一、第二移动体处于所述并列状态时,所述第一移动体与所述第二移动体透过所述交接部在所述第一方向接近;
于所述第一移动体与所述第二移动体中至少一者,设有在所述并列状态下位于两移动体间的间隙,以抑制所述液体从所述间隙泄漏的抑制构件。
10.如权利要求1至9中任一权利要求所述的曝光装置,其中,于所述第一移动体,从所述第二方向一侧连接有缆线;
于所述第二移动体,从所述第二方向另一侧连接有缆线。
11.如权利要求10所述的曝光装置,其进一步具备配置于所述第二区域、用以检测所述第一及第二移动体中位在紧邻下方的特定移动体上存在的标记的标记检测系统。
12.如权利要求10所述的曝光装置,其中,在所述迁移时,所述液体持续保持于所述光学系统与位于所述第一区域的移动体之间。
13.如权利要求12所述的曝光装置,其中,所述移动体驱动系统包含沿所述既定平面驱动所述第一、第二移动体的平面马达。
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