[实用新型]汽车电子用硅PNP型高频高速低压降高增益功率晶体管无效

专利信息
申请号: 200820185013.0 申请日: 2008-08-08
公开(公告)号: CN201243018Y 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 龚利汀;钱晓平;龚利贞 申请(专利权)人: 无锡固电半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/732 分类号: H01L29/732;H01L29/06
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 代理人: 曹祖良
地址: 214028江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型属于半导体晶体管技术领域,具体涉及到一种汽车电子用的硅PNP型高频高速低饱和压降高电流增益功率晶体管。本实用新型的目的是这样实现的:在低阻硅片衬底上设置集电区,在集电区内形成基区,在基区内形成发射区,在发射区旁边的基区内形成增阻环,所述集电区、基区、发射区及增阻环位于同一个剖面层内,在所述集电区、基区、发射区及增阻环的上表面设置二氧化硅膜,在对应于发射区及基区的部位的二氧化硅膜上设置引线孔,在对应于发射区的引线孔部位设置发射极铝层,在对应于基区的引线孔部位设置基极铝层,所述发射极铝层与发射区电连接,所述基极铝层与基区电连接。这种晶体管的特征频率高、开关速度快、饱和压降低、电流增益高。
搜索关键词: 汽车 电子 pnp 高频 高速 低压 增益 功率 晶体管
【主权项】:
1、汽车电子用硅PNP型高频高速低饱和压降高电流增益功率晶体管,其特征是:在低阻硅片衬底(10)上设置集电区(4),在集电区(4)内形成基区(3),在基区(3)内形成发射区(2),在发射区(2)旁边的基区(3)内形成增阻环(5),所述集电区(4)、基区(3)、发射区(2)及增阻环(5)位于同一个剖面层内,在所述集电区(4)、基区(3)、发射区(2)及增阻环(5)的上表面设置二氧化硅膜(6),在对应于发射区(2)及基区(3)的部位的二氧化硅膜(6)上设置引线孔,在对应于发射区(2)的引线孔部位设置发射极铝层(8),在对应于基区(3)的引线孔部位设置基极铝层(7),所述发射极铝层(8)与发射区(2)电连接,所述基极铝层(7)与基区(3)电连接。
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