[实用新型]连续选择电镀的掩膜压板装置无效
申请号: | 200820093019.5 | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN201165556Y | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 苏骞 | 申请(专利权)人: | 苏骞 |
主分类号: | C25D5/02 | 分类号: | C25D5/02 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 郭伟刚;张秋红 |
地址: | 518000广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种连续选择电镀的掩膜压板装置,包括镀槽、气缸,其中气缸通过气缸固定板竖直固定在镀槽上,气缸活塞杆下端固定有水平的上掩膜压板,与上掩膜压板对应的镀槽上设有水平的下掩膜压板,在气缸固定板上固定有至少两个气缸,所有气缸相对于上掩膜压板中心对称设置,在气缸固定板上还设有上掩膜压板的导向机构,气缸推动上掩膜压板沿导向机构上下移动。本实用新型的连续选择电镀的掩膜压板装置加压均衡稳定,非电镀区域覆盖严密,电镀质量高。 | ||
搜索关键词: | 连续 选择 电镀 压板 装置 | ||
【主权项】:
1、一种连续选择电镀的掩膜压板装置,包括镀槽、气缸,其中气缸通过气缸固定板竖直固定在镀槽内上方,气缸活塞杆下端固定有水平的上掩膜压板,镀槽内与上掩膜压板对应设有水平的下掩膜压板,其特征在于,在气缸固定板上固定有至少两个气缸,所有气缸相对于上掩膜压板中心对称设置,在气缸固定板上还设有上掩膜压板的导向机构,气缸推动上掩膜压板沿导向机构上下移动。
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