[发明专利]截面降低的同位素系统有效

专利信息
申请号: 200810179633.8 申请日: 2008-11-28
公开(公告)号: CN101471151A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: W·E·拉塞尔二世;C·J·莫内塔;R·P·希金斯;V·W·米尔斯;D·G·史密斯;C·W·克拉克;M·S·德菲利皮斯 申请(专利权)人: 通用电气-日立核能美国有限责任公司
主分类号: G21G1/02 分类号: G21G1/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;杨松龄
地址: 美国北卡*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及截面降低的同位素系统。具体而言,提供了用于发电核反应堆芯(10)的同位素生产靶棒(20)。同位素生产靶棒(20)可包括至少一个棒中心体(40),该棒中心体(40)包括限定内部腔体(66)的外壳(65),并且该同位素生产靶棒(20)包括位于内部腔体(66)中的多个辐射靶(70)。辐射靶(70)利用低核截面的隔离介质(74)以一定的空间排列定位,用以维持该空间排列。
搜索关键词: 截面 降低 同位素 系统
【主权项】:
1. 一种用于核动力反应堆芯(10)的同位素生产靶棒(20),所述同位素生产靶棒(20)包括:至少一个棒中心体(40),其包括限定内部腔体(66)的外壳(65);以及位于所述内部腔体(66)中的多个辐射靶(70),所述辐射靶(70)利用低核截面的隔离介质(74)按一定的空间排列定位,用以维持所述空间排列。
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