[发明专利]用于增加蓝光透光率的抗反射涂层结构及其制作方法无效
申请号: | 200810096128.7 | 申请日: | 2008-04-29 |
公开(公告)号: | CN101571602A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 张正杰;刘秀凤;郭璧瑞 | 申请(专利权)人: | 智盛全球股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁 挥;祁建国 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构,其包括有:一基板及一涂层模块。该涂层模块形成于该基板的一前表面上,并且该涂层模块由多层预定涂层、多层含铝氧化物涂层、与多层金属涂层彼此相互交替相叠而组成。 | ||
搜索关键词: | 用于 增加 透光率 反射 涂层 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构,其特征在于,包括有:一基板;以及一涂层模块,形成于该基板的一前表面上,并且该涂层模块由多层预定涂层、多层含铝氧化物涂层、与多层金属涂层彼此相互交替相叠而组成。
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