[发明专利]具有色彩图样显影片制程及其产品无效
| 申请号： | 200810091628.1 | 申请日： | 2008-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101556428A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 陈政欣 | 申请（专利权）人： | 宝镇光电科技股份有限公司;欣泉光印股份有限公司 |
| 主分类号： | G03C1/485 | 分类号： | G03C1/485;G03C1/74;G03F7/12;C23C14/48;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有色彩图样显影片制程及其产品，其主要是先将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案，再将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模，经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即可于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案，并通过重复曝光显影、镀膜及去除光阻层的流程即可在单一基材上得到彩色效果的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 色彩 图样 显影 片制程 及其 产品 | ||
【主权项】：
1.一种具有色彩图样显影片制程，其包含：一、基材清洗：主要是将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，基材在清洗后具有干净的表面，以利于下一流程的进行；二、曝光处理：于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案；三、真空镀膜：将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模；以及四、去除光阻层：经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即能于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案。
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- 本发明公开了一种具有色彩图样显影片制程及其产品，其主要是先将在基材上的杂质清除，使杂质能脱离基材的表面，于清洗过的基材上涂布一层光阻层，并对于涂布光阻层的基材进行曝光显影，使基材上形成镂空的网点组合图案，再将经曝光显影处理后的基材放置于一真空镀模机中进行镀模，经过真空镀模处理后，将基材的光阻层予以去除，即可于基材上产生单一色彩的镂空网点组合图案，并通过重复曝光显影、镀膜及去除光阻层的流程即可在单一基材上得到彩色效果的图案。
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