[发明专利]盖革式雪崩光电二极管有效

专利信息
申请号: 200780004329.3 申请日: 2007-01-17
公开(公告)号: CN101379615A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: P·阿加瓦尔;J·桑斯基;L·J·考皮南 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/107
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;谭祐祥
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 利用绝缘硅晶圆和衬底转移处理来制造雪崩式光电二极管阵列(102)。该阵列包括多个光电二极管(100)。该光电二极管(100)包括电绝缘层(206)、耗尽区(204)、以及第一(208)和第二(210)掺杂区。互连层(212)包括用于提供与光电二极管的电连接的电极(214,216)。光电二极管阵列(102)由操作晶圆(217)承载。
搜索关键词: 盖革式 雪崩 光电二极管
【主权项】:
1、一种雪崩光电二极管包括:半导体耗尽区(204);阳极(208,210);以及阴极(208,210)其中具有处于可见光谱蓝端中的波长的入射光子在所述耗尽区中被吸收以便生成电荷载流子,并且其中所述电荷载流子在所述耗尽区中受到碰撞电离以便在所述光电二极管中生成雪崩电流。
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