[发明专利]用于处理扁平、易碎基体的装置无效

专利信息
申请号: 200710181928.4 申请日: 2007-10-17
公开(公告)号: CN101165870A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: I·格拉萨 申请(专利权)人: 霍尔穆勒机械制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/02;H01L21/00;B65G49/05;B65G49/06;B65G49/07
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 吴鹏;马江立
地址: 德国黑*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于处理扁平、易碎基体(2)的装置(1),其中,所述基体(2)在一处理腔中由处理液(14)加载作用。为此所述基体由输送装置(3)引导水平穿行通过所述处理腔。具有圆柱形的可转动地支承的侧向引导滚轮(20)的侧向引导装置确保有利地沿输送方向(4)定向地对基体(2)进行输送。
搜索关键词: 用于 处理 扁平 易碎 基体 装置
【主权项】:
1.一种用于处理特别是用于半导体工业和太阳能工业的扁平、易碎基体的装置,包括:a)一处理腔,在该处理腔中可利用处理液对基体进行加载作用;b)一输送装置,利用该输送装置可以引导所述基体水平地穿行通过处理腔;c)至少一个侧向引导装置,所述侧向引导装置作用在基体彼此背离的、基本上平行于输送装置分布的外棱边上,其特征在于:所述侧向引导装置具有圆柱形的可转动地支承的侧向引导滚轮(20)。
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