[发明专利]大尺寸CuI晶体的生长方法无效
申请号: | 200710171815.6 | 申请日: | 2007-12-06 |
公开(公告)号: | CN101255599A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 顾牡;高攀;刘小林;黄世明;刘波;张甜 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | C30B29/12 | 分类号: | C30B29/12;C30B7/08 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 20009*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于晶体生长技术领域,具体涉及一种大尺寸CuI晶体的生长方法。本发明采用溶液降温与溶剂蒸发相结合的技术,具有设备简单、价格低廉、生长温度低和生长过程容易调控等优点。晶体外形呈长方体,尺寸达到厘米量级。所生长出的CuI晶体为γ相,其纯度高、缺陷少、形貌好和尺寸大,因而作为新一代超快闪烁体,在超高计数率X-射线、γ射线和电子束测量等方面都有着重要价值,同时还可以用做快离子导体。 | ||
搜索关键词: | 尺寸 cui 晶体 生长 方法 | ||
【主权项】:
1、一种大尺寸CuI晶体的生长方法,其特征在于具体步骤为:(1)在20~65℃温度下将碘化亚铜粉末溶解于乙腈溶剂中,搅拌4~10分钟,待粉末不再溶解为止,即得到饱和液;每100g乙腈中碘化亚铜加入量为:2.894wt%~7.703wt%;(2)将饱和液过滤,得到过滤液;(3)取步骤(2)所得过滤液倒入生长容器中,封口;接着将生长容器置于-15~15℃的恒温环境下进行降温,静置1~5天,即得到厘米量级的长方体晶体作为籽晶;(4)重复步骤(1)和(2),将过滤液加入到溶液降温装置的培养缸中,将上部生长区溶液温度设定为溶液饱和温度之上2-5℃,并在该温度下保持24~48小时,然后放入步骤(3)得到的籽晶,进行降温生长,降温速度为1-10℃/天;CuI晶体的生长温度为-15-65℃;待晶体长至所需尺寸时,以2-20℃/天的降温速率降温,即得到本发明所需产品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710171815.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。