[发明专利]阵列衬底、显示器及其制造方法

摘要

本发明提供一种在形成多种薄膜图形的区域，在同一照相制版工序中进行中间曝光的场合，中间抗蚀剂膜厚的偏差减小，形成中间抗蚀剂膜厚而加工的工艺保留余地增加而成品率提高、成本降低的阵列衬底、显示器、及其制造方法。在阵列衬底(100)中，在由第2导电膜形成的漏电极(8)、源极端子(62)、及共用连接布线(46)上分别具有，采用不完全曝光抗蚀剂(30)的中间曝光量，形成中间抗蚀剂膜厚而加工的区域(H1、H2、H3)。在该区域(H1、H2、H3)的下层的大致整个区域中，以离衬底(1)的高度基本相同的方式形成有由第1导电膜形成的薄膜图形(12、15)或共用布线(3)。

主权项

1.一种阵列衬底，其具有：衬底；采用不完全曝光抗蚀剂的中间曝光量，形成中间抗蚀剂膜厚而加工的多种薄膜图形；上述多种薄膜图形按照离上述衬底的高度基本相同的方式形成。