[发明专利]液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200710151634.7 | 申请日： | 2007-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101131539A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 林祥麟;曹俊杰 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法，在半穿透半反射式或反射式液晶显示器中产生一个光反射结构，该方法使用一个或一个以上在基板上形成的不透光图层为光掩模，在背面曝光工艺中使光刻胶层曝光。在曝光过的光刻胶层被显影之后，热处理或紫外线固化工艺被用来重塑光刻胶层以重新成型较多或较少地连续性但是不均匀的表面。之后，反射涂层被沉积在不均匀的表面。在较低的光掩模跟基板中间及较顶部的光掩模跟感光保护层中间可加入一个或多个中间层，该光掩模和中间层的制成与液晶显示面板构成有相关联。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶显示 面板 液晶显示器 反射 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种产生光反射结构的方法，适用在一液晶显示器中的一基板上，其特征在于，步骤包括：提供一光掩模于该基板上，该光掩模包含多光刻胶隔区域及多非阻隔区域；沉积一光刻胶层在该光掩模上；通过该光掩模曝光该光刻胶层，以提供一曝光光刻胶层，该曝光光刻胶层包含多曝光层区域；显影该曝光光刻胶层以提供一非平坦表面；重新塑形该非平坦表面用以制作一塑形表面；沉积一光反射涂层于该重新塑形表面上。
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