[发明专利]液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法，尤其涉及一种于反射式或半穿透半反射式的液晶显示面板。

背景技术

由于具有外型薄及低功率消耗的特点，液晶显示器(LCDs)被广泛地使用在较多的电子产品中，例如手提式个人计算机、数字相机、投影机等产品，一般而言，液晶显示面板区分为穿透式、反射式及半穿透半反射，穿透式液晶显示面板利用背光模块作为其光源，而反射式液晶显示面板利用环境光线作为其光源，半穿透半反射式液晶显示面板则同时使用背光模块及环境光源。

在现有技术中，彩色液晶显示面板1具有二维阵列的像素10，如图1所示，而每个像素包含多个子像素，通常为三个主要的颜色，包括红(R)、绿(G)及蓝(B)，该红、绿及蓝三个颜色构成要素可通过个别颜色的滤光片所完成，图2为现有技术的半穿透半反射式液晶显示面板的像素结构的平面图，而图3a及图3b为像素结构的剖面图，由图2中可知，一个像素可被区分为三个子像素12R、12G及12B以及每一子像素划分为一穿透区域(TA)和一反射区域(RA)，如图3a所示的穿透式区域，光可能由背光模块进入像素区域并穿过下层基板30，接着穿过液晶层、一彩色滤光片(R)及上层基板20。另一种光路径可能为反射区域中，光被反射层52反射前会先穿过液晶层、一彩色滤光片(R)及上层基板20，在这二种情况择一之下，一部分的反射区域会被非彩色滤光片(NCF)遮蔽，如图3b所示。

在现有技术中可知，在液晶层中有更多的阶层(layer)被设于每一像素中用以控制液晶显示层的光学行为，这些阶层包含了装置层(device laver)50及一或两个电极层，装置层通常被设置在下层基板上以及包含网关31、32以及、数据线路21-24(图2)，晶体管，及钝化层(无标示)。

本发明提供在半穿透半反射式及反射式液晶显示面板上制作反射层的较佳方法。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法，用以在半穿透半反射式及反射式液晶显示器内，制作使用于像素中的光反射结构。

在本发明的方法中，当光刻胶层(surface pattern)被一通过光掩模的光束曝光及显影时，一或二个光掩模被设置在基板上，以成形一层非平坦表面图案于设于光掩模上的光刻胶层，被曝光及显影的光刻胶层在热处理工艺或紫外线固化(UV curing)工艺被软化或是被流化(re-flow)以产生一重新塑形的表面，而一反射涂层被沉积在重新塑形的表面上，特别是，当两光掩模被用来在曝光工艺中阻隔部分的光束时，二光掩模都设有光刻胶隔区域以及非阻隔区域，该区域被重迭排列，使已结合的非阻隔区域小于在另一个光掩模中的非阻隔区域。利用背面曝光及显影工艺，使反射区形成非平坦表面包含杆状凸块，该凸块在光刻胶层进行重新塑形过程时，形成连续接口。光掩模也可被设计使至少一部分的非平坦表面包含裂缝或空孔，该裂缝或空孔在光刻胶层进行重新塑形过程时被部分填满，该光反射结构可能包含一或多层中间层被设置在光掩模之间、在光刻胶层及上层光掩模之间，以在基板及下层光掩模之间。

因此，为了实现上述目的，本发明提供一种产生光反射结构的方法，用以制造一光反射结构于一液晶显示面板的基板上，该方法包含的步骤有：提供一光掩模在基板上，光掩模包含光刻胶隔区域及非阻隔区域；沉积一光刻胶层于光掩模上；通过光掩模曝光光刻胶层以提供已曝光的该光刻胶层包括多曝光层区域；使已曝光的光刻胶层显影以制造一非平坦表面；重新塑形非平坦表面产生一重新塑形表面；沉积一光反射涂层于该重新塑形表面上，其中该重新塑形步骤中可为热处理工艺或紫外线固化(UV curing)工艺。

本发明的方法还包含了沉积一个或多个中间层在基板及光掩模之间的步骤，以及(或)沉积一或多层中间层在光刻胶层及光掩模之间的步骤。

本发明的方法还包含了提供另一光掩模在中间层及光刻胶层之间的步骤，其中，另一光掩模包括光刻胶隔区域至少部分地不同于光掩模里的光刻胶隔区域，以便于减少该曝光层区域。

本发明的方法还包含了沉积一或多个不同中间层在光刻胶层及另一光掩模之间的步骤。