[发明专利]液晶显示面板、液晶显示器的光反射结构及其制造方法

权利要求书

1.一种产生光反射结构的方法，适用在一液晶显示器中的一基板上，其特征在于，步骤包括：

提供一光掩模于该基板上，该光掩模包含多光刻胶隔区域及多非阻隔区域；

沉积一光刻胶层在该光掩模上；

通过该光掩模曝光该光刻胶层，以提供一曝光光刻胶层，该曝光光刻胶层包含多曝光层区域；

显影该曝光光刻胶层以提供一非平坦表面；

重新塑形该非平坦表面用以制作一塑形表面；

沉积一光反射涂层于该重新塑形表面上。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：沉积一或多个中间层在该基板与该光掩模之间，该中间层由至少一种以上且不同于该光掩模的材质所制造。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：沉积一或多个中间层在该光刻胶层与该光掩模之间，其中，该中间层由至少一种以上且不同于该光掩模的材质所制造。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：提供另一光掩模设于该中间层及该光刻胶层之间，该另一光掩模包含多光刻胶隔区域，且至少部分不同于在该光掩模中的该光刻胶隔区域，以减少该曝光层区域。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该重新塑形的步骤包含一热处理程序以重塑该光刻胶层。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该重新塑形包含一紫外线固化程序以重塑该光刻胶层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该光掩模由金属涂层所制成。

8.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，该中间层包含了一绝缘层。

9.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，该中间层包含了一非晶硅层。

10.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，该另一光掩模由金属涂层所制成。

11.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包含：沉积一或多个中间层在该光刻胶层与该另一光掩模之间。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，该一或多个不同中间层包含一导电层。

13.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，该一或多个不同中间层包含一保护层。

14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该非光刻胶隔区域被排列使至少部份非平坦表面包含光刻胶材质的多不连续面。

15.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该非光刻胶隔区域被排列使至少部份非平坦表面包含多空孔。

16.一种光反射结构，设于一液晶显示器中的一像素中，该液晶显示器包含一基板，其特征在于，该光反射结构包含：

一第一光掩模设于该基板中，该第一光掩模包含多光刻胶隔区域及多非光刻胶隔区域；

一或多个中间层被沉积在该第一光掩模上；

一第二光掩模设于该中间层上，该第二光掩模包含另一多光刻胶隔区域及另一多非光刻胶隔区域；

一光刻胶层被沉积在该第二光掩模上，另一该光刻胶隔区域至少部分不同于该光刻胶隔区域以及另一该非光刻胶隔区域有部分与该非光刻胶隔区域重迭，在曝光程序中用以容许一曝光光束通过该第一及该第二光掩模的至少部分该光刻胶层；以及

一反射涂层被沉积在该光刻胶层上。

17.根据权利要求16所述的光反射结构，其特征在于，该第一光掩模为金属所制。

18.根据权利要求16所述的光反射结构，其特征在于，该第二光掩模为金属所制。

19.根据权利要求16所述的光反射结构，其特征在于，该中间层包含一绝缘层。

20.根据权利要求16所述的光反射结构，其特征在于，该中间层包含一非晶硅层。

21.根据权利要求16所述的光反射结构，其特征在于，还包含一保护层沉积在该第一光掩模与该基板中间。