[发明专利]执行等离子化学气相沉积工艺的设备和制造光纤的方法有效
申请号: | 200710109083.8 | 申请日: | 2007-06-18 |
公开(公告)号: | CN101089223A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | J·A·哈特休克;M·科斯坦;M·J·N·范斯特拉伦;R·H·M·德克尔斯 | 申请(专利权)人: | 德雷卡通信技术公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/40;G02B6/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 苏娟 |
地址: | 荷兰阿姆*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于执行等离子化学气相沉积工艺的设备,通过该设备能够将一层或多层掺杂或不掺杂的二氧化硅沉积在细长玻璃基管的内部。本发明还涉及一种通过这样一种设备制造光纤的方法。 | ||
搜索关键词: | 执行 等离子 化学 沉积 工艺 设备 制造 光纤 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于执行等离子化学气相沉积工艺的设备,通过该设备能够将一层或多层掺杂或不掺杂的二氧化硅沉积在细长玻璃基管的内部,该设备包括细长的微波波导管,该波导管伸入一个共振腔,该共振腔围绕一圆柱轴线呈大致圆柱形对称地形成,所述基管沿着该圆柱轴线设置,其中所述共振腔为大致环形并具有圆柱形内壁和圆柱形外壁,并且其中所述圆柱形内壁包括围绕所述圆柱轴线以整个圆形延伸的狭槽,并且其中所述微波波导管具有纵向轴线,该纵向轴线大致垂直于所述圆柱轴线延伸,以形成同轴波导管,还具有相对于所述纵向轴线以一个角度延伸的轴线,以形成馈电波导管,天线能够沿着所述纵向轴线在所述同轴波导管中运动,其特征在于:所述天线将所述馈电波导管分成两个部分。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的