[发明专利]具有表面带的存储器与其形成方法无效

专利信息
申请号: 200710107498.1 申请日: 2007-05-15
公开(公告)号: CN101308850A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 张文岳 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L23/522;H01L21/8242;H01L21/768
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 任默闻
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是关于一种具有表面带的存储器,该存储器包括一沟渠电容(trench capacitor)、一自我对准的表面带(self-aligned surface strap)以及一金属氧化半导体晶体管,所述的沟渠电容位于一半导体基板中,所述的自我对准的表面带覆盖于所述的沟渠电容及其开口周围的主动区上,金属氧化半导体晶体管的源/漏极之一与所述的表面带相接,而另一则连接至一位线。本发明提供的具有表面带的存储器及其形成方法,可使动态随机存取存储元的尺寸压缩到6F2,此外,表面带的形成为自我对准,因此不需要额外的掩膜来形成表面带。
搜索关键词: 具有 表面 存储器 与其 形成 方法
【主权项】:
1.一种具有表面带的存储器,其特征在于,该存储器包括:一沟渠电容,位于一半导体基板中;一自我对准的表面带,覆盖于所述的沟渠电容及其开口周围的主动区上;以及一金属氧化半导体晶体管,其源/漏极之一与所述的表面带相接,而另一则连接至一位线。
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