[发明专利]图像感应元件及其系统芯片半导体结构有效
申请号: | 200710100964.3 | 申请日: | 2007-04-28 |
公开(公告)号: | CN101159278A | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 喻中一;蔡嘉雄;傅士奇 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明有关于一种图像感应元件及其系统芯片半导体结构,其中该图像感应元件的基底具有光感应区于其内和/或其上;互连线结构在基底上方,并包含多条金属线设于多个金属层间介电(IMD)层内。至少一个IMD层微透镜设于至少一IMD层内,并位于光感应区上方。在IMD层之间优选设置阻挡层,且IMD层微透镜和蚀刻停止层的折射率大于IMD层的折射率。在金属线上优选设置覆盖层,特别是当金属线包含铜时。上层微透镜可设置于互连线结构之上。本发明对于密集的像素区和/或高度整合的嵌入式结构(例如三层以上结构)无HDP间隙填充问题,并且不需额外的步骤去移除在光感应区上方的阻挡层。 | ||
搜索关键词: | 图像 感应 元件 及其 系统 芯片 半导体 结构 | ||
【主权项】:
1.一种图像感应元件,包括:基底,具有光感应区;互连线结构,设置于该基底上方,该互连线结构包含多条金属线设于多个金属层间介电层内;以及至少一个金属层间介电层微透镜,设于至少一金属层间介电层内,且位于该光感应区上方。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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