[发明专利]半导体器件无效

专利信息
申请号: 200710087951.7 申请日: 2007-02-08
公开(公告)号: CN101017822A 公开(公告)日: 2007-08-15
发明(设计)人: 海老原美香;理崎智光 申请(专利权)人: 精工电子有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L27/092;H01L23/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;梁永
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种半导体器件,其能够通过在用作该半导体器件的静电保护元件的具有常规漏极结构的NMOS晶体管的N型源极和漏极扩散层之间局部地形成P型扩散层,来容易地设定保持电压和低触发电压。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1、一种半导体器件,包括:半导体衬底;设置在该半导体衬底中的P型阱区;设置在该P型阱区上并包围有源元件区的场氧化物膜;在设置在有源元件区上的栅氧化物膜上设置的栅电极;被该场氧化物膜和该栅电极包围的N型源区和漏区;P型区,其被使得与该N型漏区接触、形成在N型源区和漏区之间、并具有比P型阱区的浓度高的浓度;电介质夹层,用于使N型源区和漏区与形成在栅电极上的布线层电绝缘;以及接触孔,其被提供在电介质夹层中以将栅电极以及N型源区和漏区电连接至布线层。
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