[发明专利]半导体纳米复合薄膜的制备方法无效
申请号: | 200710078087.4 | 申请日: | 2007-12-25 |
公开(公告)号: | CN101471392A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 娄文静;王晓波;郝京诚;陈淼 | 申请(专利权)人: | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/368 |
代理公司: | 兰州中科华西专利代理有限公司 | 代理人: | 方晓佳 |
地址: | 730000甘肃*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体纳米复合薄膜的制备方法。本发明将可形成硫化镉纳米颗粒的分子前驱体溶于氧化钛溶胶,从而实现前驱体与氧化钛胶粒分子级别的均匀混合,将此溶胶再进行涂膜,进而进行热处理,在热处理过程中前驱体在氧化钛膜中原位形成硫化镉纳米颗粒。 | ||
搜索关键词: | 半导体 纳米 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体纳米复合薄膜的制备方法,其特征在于该方法包含以步骤:(a)配制前驱体溶液,所述的前驱体是指双烷基双硫代磷酸镉盐,溶液中的溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、丙酮、甲醇或乙醇;(b)将前驱体溶液与氧化钛溶胶混合均匀;(c)在基底表面涂膜;(d)将涂膜后的基材在200~800℃下进行热处理。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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