[发明专利]等离子辅助化学气相沉积装置无效
| 申请号： | 200710073407.7 | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101255553A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 颜硕廷 | 申请（专利权）人： | 群康科技（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513;C23C16/52 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子辅助化学气相沉积装置。该等离子辅助化学气相沉积装置包括一射频电路、一第一电极板和一第二电极板，该第二电极板与该第一电极板相对设置。该第一电极板包括至少两个子电极板。该射频电路包括一射频功率源和至少两个可变电阻，该射频功率源的一端与该第二电极板连接，该射频功率源的另一端分别经由该可变电阻连接到该至少两个子电极板。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 辅助 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种等离子辅助化学气相沉积装置，其包括：一射频电路、一第一电极板和一第二电极板，该第二电极板与该第一电极板相对设置，其特征在于：该第一电极板包括至少两个子电极板，该射频电路包括一射频功率源和至少两个可变电阻，该射频功率源的一端与该第二电极板连接，该射频功率源的另一端分别经由该可变电阻连接到该至少两个子电极板。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
