[发明专利]透射对准标记组合及光刻装置的对准方法有效
| 申请号： | 200710045044.6 | 申请日： | 2007-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101135859A | 公开（公告）日： | 2008-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李焕炀;陈勇辉;宋海军;周畅 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投射对准标记组合及光刻装置的对准方法，通过采用高对比度且呈180°对称的对准标记组合进行粗精结合的掩模对准扫描，获得高对比度的对准辐射信息，用获得对准辐射信息和工件台及掩模的位置信息，逐级获得高精度的对准位置，建立曝光掩模图形相对工件台坐标系的空间位置。采用本发明的标记组合及其对准扫描方法，可提高对准精度和对准扫描效率。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 对准 标记 组合 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透射对准标记组合，包括位于掩模上的掩模对准标记，以及位于工件台上与掩模对准标记配合使用的工件台基准板标记，其特征在于：所述的掩模对准标记由至少两个第一分支图形和至少一个第二分支图形组合而成，所述的工件台基准板标记由四个第一分支图形等距离分布在一个第二分支图形四周而成；所述的第一分支图形由三个栅形标记结构组成，所述的第二分支图形为方形透射孔。
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